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ENCYCLOPÉDIE DE LA RADIOÉLECTRONIQUE ET DU GÉNIE ÉLECTRIQUE Les PCB simplifiés ! Encyclopédie de l'électronique radio et de l'électrotechnique
Encyclopédie de l'électronique radio et de l'électrotechnique / Radio-amateur Technologies Dans la production de cartes de circuits imprimés, à la fois industrielles et individuelles, des vernis photosensibles sont souvent utilisés. L'un des meilleurs est le vernis photorésistant POSITIV 20 de KONTAKT CHEMIE, facile à utiliser, facile à enlever, très sensible et relativement peu coûteux. Lorsque vous travaillez avec ce vernis, l'image est exposée directement à partir du photomasque positif, sans faire de négatifs intermédiaires. Un aérosol de 200 ml peut généralement recouvrir 4 m2 de feuille de cuivre. Le vernis photorésist POSITIV 20 se conserve un an à une température de 8 à 12°C. Ne pas trop refroidir POSITIV 20. Comment, sans expérience, fabriquer soi-même une planche ? Considérez les principales étapes de ce processus. La surface de la feuille sur laquelle la résine photosensible sera appliquée doit être absolument propre et exempte de graisse. Après élimination des oxydes et des impuretés, le cuivre acquiert une couleur rose vif. Ensuite, l'ébauche de carton est lavée dans une grande quantité d'eau pour éliminer les restes de la composition détergente et les particules abrasives. À l'avenir, la surface de travail du panneau vierge ne doit plus entrer en contact avec d'autres solvants (acétone, alcool), elle ne doit pas être touchée par les mains. Après le lavage, la pièce est séchée à l'air chaud d'un sèche-cheveux. La laque doit être appliquée immédiatement après séchage, afin qu'un film d'oxyde n'ait pas le temps de se former sur la feuille. POSITIV 20 n'a pas besoin d'être appliqué dans l'obscurité totale - à l'état liquide, la résine photosensible est insensible à la lumière. Le travail peut être effectué sous un éclairage diffus, à l'exclusion de la lumière directe du soleil ou de la lumière vive sur la surface de la pièce. Il est également important que le lieu de travail soit exempt de courants d'air et de poussière. La résine photosensible est appliquée à température ambiante, elle doit donc être retirée du stockage 4 à 5 heures avant utilisation. Placez le flan de planche sur une surface horizontale ou légèrement inclinée et vaporisez le composé à partir d'un aérosol à une distance d'environ 20 cm.Pour créer un revêtement uniforme, vaporisez le composé dans un mouvement continu en zigzag en partant du coin supérieur gauche. Éviter la surpulvérisation car cela entraînera des traînées et des épaisseurs de couche inégales. À l'avenir, cela nécessitera une augmentation de l'exposition. Pour réduire la perte de résine photosensible, il est permis de pulvériser l'aérosol à une distance plus courte. Lors de la pulvérisation, assurez-vous que la buse de l'emballage est toujours située au-dessus du récipient afin d'éviter de gaspiller du gaz propulseur. Sinon, l'aérosol peut cesser de fonctionner lorsqu'il reste encore de la résine photosensible. L'épaisseur de la couche résultante peut être estimée approximativement par sa couleur - le gris-bleu clair correspond à une épaisseur de 1 ... 3 microns, le gris-bleu foncé - 3 ... 6 microns, le bleu - 6 ... 8 microns et le bleu foncé - plus de 8 microns. Sur cuivre clair, la couleur du revêtement peut avoir une teinte verdâtre. Après avoir pulvérisé la résine photosensible, le flan de carte doit être immédiatement transféré pour sécher dans un endroit sombre. Au fur et à mesure que le revêtement sèche, le degré de photosensibilité du revêtement, en particulier aux rayons ultraviolets (UV), augmente. En l'absence d'équipement spécial, la couche de photo-vernis peut être séchée à température ambiante pendant au moins 24 heures.Pour accélérer le processus, la pièce est placée dans un four ou un thermostat. Si un appareil de chauffage domestique, tel qu'un gril électrique ou un sèche-cheveux, est utilisé pour le séchage, assurez-vous qu'il n'y a pas de lumière provenant de l'extérieur et de l'élément chauffant. Augmentez la température lentement. A 70°C, il suffit de sécher pendant 20 minutes. Le chauffage de la pièce au-dessus de 70°C peut endommager la photocouche. Le stock de flans de carton séchés avant exposition doit être stocké dans un endroit sombre, sec et frais. L'image originale des conducteurs imprimés utilisés pour le transfert sur feuille doit être soigneusement préparée et retouchée, sinon toutes ses imperfections affecteront la qualité de la copie. Il est important que le motif soit contrasté et que les zones sombres soient complètement opaques. Les plis et les plis de l'original doivent être exclus. La base du photomasque - film ou papier - doit transmettre les rayons UV, mais pas la peinture. Certaines publications placent sur leurs pages des dessins de cartes de circuits imprimés spécialement conçues pour la technologie décrite. - le verso de ces dessins est laissé en blanc. Après avoir traité la page avec le spray TRANSPARENT 21 de KONTAKT CHEMIE, le papier devient transparent aux rayons UV, c'est-à-dire adapté à la copie directe du dessin directement de la page sur le carton vierge. TRANSPARENT 21 élimine la copie fastidieuse des plans de planche. Le photomasque est étroitement pressé contre la couche de résine photosensible de la pièce et illuminé intensément. Le temps nécessaire à l'exposition dépend de l'épaisseur de la couche de résine photosensible sur la pièce et de l'intensité de la lumière. Le vernis POSITIVE 20 étant sensible aux rayons UV, il est conseillé d'utiliser des lampes à mercure ou à quartz de 300 W pour l'exposition. Des résultats satisfaisants sont obtenus avec une lampe à incandescence ordinaire d'une puissance de 200 W à une distance d'environ 12 cm de l'objet.Avant le début de l'éclairage, la lampe est chauffée pendant 2 ... 3 minutes. Le temps d'exposition avec une lampe au mercure à une distance de 25...30 cm ne dépasse généralement pas 1...2 min. Bien sûr, vous pouvez également utiliser la lumière du soleil riche en ultraviolets (temps d'exposition - 5 ... 10 minutes). Pour presser le photomasque sur la pièce, il est préférable d'utiliser une feuille de verre organique, car le verre ordinaire absorbe jusqu'à 65% du rayonnement ultraviolet, ce qui nécessitera une augmentation correspondante du temps d'exposition. Lors de l'utilisation d'un photorésist stocké à long terme, le temps d'exposition devra également être augmenté (pour une période de stockage allant jusqu'à un an, environ deux fois). S'il y a de petits détails sur l'original, afin de conserver leurs dimensions sur la feuille et d'obtenir des bords contrastés uniformes sur les éléments les plus étroits, le photomasque doit être appliqué sur le photorésist avec le côté où le dessin est appliqué avant l'exposition. Cela nécessite dans certains cas de réaliser un dessin intermédiaire en image miroir. Les flans exposés peuvent être développés à la lumière du jour diffuse. Composition du révélateur : 7 g de soude caustique en poudre NaOH par litre d'eau froide. La pièce est placée dans un récipient avec un révélateur et la solution est agitée. Pour une couche de résine photosensible correctement exposée de 4 à 6 µm d'épaisseur, le temps de développement dans une solution fraîche ne dépasse généralement pas 0,5 à 1 min. maximum - 2 min. La température du révélateur doit être comprise entre 20 et 25 °C. Le révélateur élimine complètement la résine photosensible des zones exposées du revêtement de la pièce. Ne gardez pas la pièce dans la solution plus longtemps que nécessaire pour le développement, sinon elle commencera à agir sur des zones non exposées qui ne sont pas destinées à la gravure. Si le temps d'exposition était trop long ou que l'encre utilisée pour réaliser le dessin n'était pas opaque aux UV, l'image des pistes conductrices apparaîtra un moment, mais sera ensuite supprimée par le développeur. Après avoir retiré la pièce de la solution, rincez-la soigneusement à l'eau froide courante. Lavez-vous soigneusement les mains après avoir manipulé la solution de soude caustique. La couche de laque photorésistante POSITIV 20 résiste aux solutions acides contenant du chlorure ferrique FeCl3. persulfate d'ammonium (NH4)2S2O8. acides chlorhydrique et fluorhydrique. Il est recommandé de graver les panneaux de feuille de cuivre dans une solution de chlorure ferrique à une concentration de 35 ... 40% à une température d'environ 45 ° C. Pour accélérer la gravure, la solution est légèrement agitée. Le point final du processus est déterminé visuellement. Après la fin de la gravure, lavez le panneau vierge avec de l'eau savonneuse et nettoyez-le des restes de résine photosensible qui n'est plus nécessaire. Cette opération peut être effectuée avec un morceau de tissu imbibé de n'importe quel solvant organique, tel que l'acétone. De plus, lorsque vous travaillez avec des cartes de circuits imprimés, FLUX SK10 (préparation des cartes de circuits imprimés pour la soudure) et URETHAN 71 (vernis acrylique de protection) sont utilisés. Auteur : Composants électroniques, Moscou
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